系統設備主要用于太陽能鈣鈦礦電池激光刻蝕，適用于ITO、FTO、氧化鋅、氧化鋯、氧化鈦、金、銀、碳粉等導電金屬、氧化物材料激光刻蝕，同時可針對玻璃基底激光劃線。設備標準尺寸1200*600mm，同時預留出小面積300*300mm內的小幅面加工需求。設備采用固體激光器，激光波長1030nm，適合對導電玻璃與鍍層進行精細刻線；采用自主研發的控制軟件、直接導入CAD 數據進行激光刻蝕，操作簡單，方便快捷；通過軟件實時調節振鏡與直線電機、電動升降工作臺的設計，加上真空吸附托盤裝置，能有效地解決激光刻蝕機在加工運行中的平穩性；采用獨特除塵系統設計，能保證玻璃與工作平面的清潔，保證激光刻蝕過程中無殘留。設備集數控技術、激光技術、軟件技術等光機電高技術于一體，具有高靈活性、高精度、高速度等先進制造技術的特征。可大范圍內進行各種圖案，各種尺寸的精密、高速刻蝕，并且能夠保證很高的產能，是一個可靠、穩定和具有高性能價格比的產品。
適用材料
玻璃基底上薄膜激光刻蝕，觸摸屏、光伏太陽能電池、電至色玻璃、其它顯示屏?？捎糜趯щ娿y漿、ITO、FTO、氧化鋅、氧化鋯、氧化鈦、碳粉、金、銀等導電金屬、氧化物材料處理。同時，可加工白玻璃激光劃線應用，最小線寬小于20微米，深度5-50微米可調。
注：以上資料由武漢元祿光電提供
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